2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

14．半導体B（探索的材料・物性・デバイス） » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[20a-D7-1~11] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年9月20日(金) 09:00 〜 12:00 D7 (MK 3F-302)

10:00 〜 10:15

[20a-D7-5] 高温熱処理を挟む2段階ALDプロセスによるAl2O3/InAlN界面特性の向上

○中野拓真，千葉勝仁，赤澤正道 (北大)

キーワード：InAlN