[27p-A3-1~17] 8.4 プラズマエッチング

[27p-A3-12] △Taマスクの形状制御のための斜め入射イオンによるスパッタリング解析 (4:30 PM ～ 4:45 PM)

^○李虎，唐橋一浩，浜口智志 (阪大院工)

キーワード：エッチング