[27p-A6-1~16] 6.2 カーボン系薄膜

[27p-A6-3] △基板表面微細加工による窒素ドープ化学気相成長ダイヤモンド薄膜における窒素空孔中心のドーピング制御 (2:15 PM ～ 2:30 PM)

^○富澤周平¹，大橋康平¹，伊藤公平¹，早瀬潤子¹，渡邊幸志²，梅澤仁²，鹿田真一² (慶大理工¹，産総研²)

キーワード：ダイヤモンド、NVセンター、CVD