[27p-F2-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[27p-F2-14] ReRAM用Ta₂O₅/TaO_x積層膜のスパッタ量産技術の開発 (5:00 PM ～ 5:15 PM)

^○福田夏樹，福寿和紀，西岡浩，鄒弘綱 (アルバック半電研)

キーワード：ReRAM、抵抗変化型メモリ、Sputtering