[28a-G11-1~9] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[28a-G11-2] ALD-Al₂O₃/InAlN 界面に対する熱処理の効果 (10:15 AM ～ 10:30 AM)

^○中野拓真，赤澤正道 (北大量集センター)

キーワード：InAlN