2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[28p-G2-1~16] 13.3 絶縁膜技術

2013年3月28日(木) 14:30 〜 18:45 G2 (B5号館 1F-2102)

[28p-G2-11] △Al2O3/Ge構造の熱酸化による界面構造変化と界面特性との相関関係 (5:15 PM ~ 5:30 PM)

柴山茂久1,加藤公彦1,2,坂下満男1,竹内和歌奈1,田岡紀之1,中塚理1,財満鎭明1 (名大院工1,学振特別研究員2)

キーワード:Al2O3/Ge、熱酸化、界面特性