2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.6 Siデバイス/集積化技術

[28p-G9-1~18] 13.6 Siデバイス/集積化技術

2013年3月28日(木) 13:30 〜 18:30 G9 (B5号館 2F-2203)

[28p-G9-10] 水素アニールによるSiナノワイヤ平滑化における方位依存性 (4:15 PM ~ 4:30 PM)

○(DC)森岡直也,須田淳,木本恒暢 (京大院工)

キーワード:Siナノワイヤ、Si nanowire、水素アニール