PDF ダウンロード スケジュール 0 いいね! 0 [28p-PA2-2] Si+イオン注入により導入した点欠陥に関連するSiGe混晶中のアクセプタ準位 (1:30 PM ~ 3:30 PM) ○(D)佐藤元樹1,有元圭介1,山中淳二1,中川清和1,澤野憲太郎2,白木靖寛2 (山梨大クリスタル研1,東京都市大総研2) キーワード:SiGe、poind defects