[29p-A3-1~6] 16.2 プロセス技術・デバイス

[29p-A3-6] 低欠陥密度膜実現に向けたアモルファスSiO:H製膜プロセスの制御 (2:45 PM ～ 3:00 PM)

^○傍島靖^1,2，柿本真之介¹，奥本凌二¹，佐田千年長^1,2，松田彰久^1,2，岡本博明^1,2 (阪大院基礎工¹，JST-CREST²)

キーワード：アモルファス、アモルファスシリコン酸化物、プラズマCVD