[29p-B8-1~10] シリコン系薄膜形成技術の新展開

[29p-B8-10] 軟X線照射によるB活性化の照射光子エネルギー依存性 (5:30 PM ～ 5:45 PM)

^○部家彰¹，福岡琢人¹，松尾直人¹，神田一浩²，野口隆³ (兵庫県立大工¹，兵庫県立大高度研²，琉球大³)

キーワード：低温活性化、軟X線、ホウ素