[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-1] シリコン窒化膜の常磁性欠陥に対する熱処理の効果 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○（M2）ナウシャド シャクール，石川貢吉，小林清輝 (東海大院)

キーワード：シリコン窒化膜、K0 センター、熱処理