[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-3] Si(100)に作製した硝酸酸化SiO₂薄膜の軟X線光電子分光 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○中島寛記¹，杉崎裕一¹，今西沙織¹，枝元一之¹，松本健俊²，小林光² (立教大理¹，阪大産研²)

キーワード：半導体