2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.4 配線技術

[30a-G6-1~11] 13.4 配線技術

2013年3月30日(土) 09:00 〜 12:00 G6 (B5号館 1F-2106)

[30a-G6-2] マイクロ流路を用いた流れ環境下における銅の溶解観察 (9:15 AM ~ 9:30 AM)

作川卓,早瀬仁則 (東京理科大)

キーワード:銅溶解