[17p-A19-1~12] 絶縁膜上におけるⅣ族系半導体結晶薄膜の低温成長－新しい結晶成長技術への期待－

[17p-A19-4] 軟X線照射による非晶質Si_XGe_1-X薄膜の低温結晶化（30分）

^○松尾直人¹，部家彰¹，伊藤和博²，高橋誠²，神田一浩³，望月孝晏³，宮本修治³ (兵庫県立大院工¹，大阪大接合科研²，兵庫県立大高度研³)

キーワード：軟X線,SiGe,低温結晶化