[18a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18a-A19-1] 軟X線照射によるB₁₀H₁₄注入Si基板中のB原子活性化

^○部家彰¹，平野翔大¹，草壁史¹，松尾直人¹，神田一浩² (兵庫県立大¹，兵庫県立大高度研²)

キーワード：Bクラスタ,活性化,軟X線