2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月18日(木) 09:00 〜 12:30 A19 (E311)

11:00 〜 11:15

[18a-A19-8] W内包Siクラスターを凝集した原子層厚シリサイド膜の電気伝導特性

岡田直也1,2,内田紀行2,金山敏彦2 (JSTさきがけ1,産総研2)

キーワード:シリサイド,接合