[18p-A11-1~17] 6.4 薄膜新材料

[18p-A11-13] 大気開放型CVD法を用いたNb:TiO₂膜の合成と抵抗率

^○（M2）小林望，菊田剛史，小松啓志，大塩茂夫，戸田育民，齋藤秀俊 (長岡技科大)

キーワード：大気開放型CVD法,Nb添加TiO2,導電体