2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19a-A17-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A17 (E308)

09:15 〜 09:30

[19a-A17-2] Hf1-xZrxO2-HfO2積層膜におけるHfO2膜の強誘電的特性の発現

西村知紀,矢嶋赳彬,長汐晃輔,鳥海明 (東大院工)

キーワード:強誘電体