2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-A10-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年9月19日(金) 13:15 〜 19:00 A10 (E214)

18:30 〜 18:45

[19p-A10-21] 反応性スパッタ法における基板バイアス印加によるVO2薄膜の結晶成長制御

蘇魁,Bintiazhan Nurulhanis,沖村邦雄 (東海大工)

キーワード:vanadium dioxide