2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[19p-A17-1~11] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月19日(金) 14:00 〜 17:00 A17 (E308)

14:30 〜 14:45

[19p-A17-3] ALD法を用いたAl2O3膜の酸化剤による膜質の検討

野崎義人,関口哲志,平岩篤,川原田洋 (早大ナノ機構)

キーワード:ALD