[19p-S10-1~18] 8.4 プラズマエッチング

[19p-S10-10] プラズマプロセス下の半導体薄膜の欠陥発生と修復の実時間モニタリング

^○布村正太，坂田功 (産総研)

キーワード：ダメージ,エッチング,プラズマ