2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16.非晶質・微結晶 » 16.2 プロセス技術・デバイス

[20a-A25-6~13] 16.2 プロセス技術・デバイス

2014年9月20日(土) 10:30 〜 12:30 A25 (E318)

12:15 〜 12:30

[20a-A25-13] 加熱タングステンワイヤ上でのジボランからのB原子およびBHラジカルの発生機構

梅本宏信1,2,金光泰二郎1,2 (静岡大工1,JST CREST2)

キーワード:ジボラン,ドーピング,Cat-CVD