2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[20a-PA3-1~7] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月20日(土) 09:30 〜 11:30 PA3 (第1体育館)

ポスター掲示時間9:30~11:30(PA3会場)

09:30 〜 11:30

[20a-PA3-2] シリコン酸窒化膜の内殻準位化学シフトと表面モフォロジーの関連

高見貴弘,和田誠,遠田義晴 (弘前大院理工)

キーワード:シリコン酸窒化膜,内殻準位化学シフト,表面モフォロジー