2:00 PM - 2:15 PM
[20p-A13-5] Simulation Study on Resist Shrinkage in Nanoimprint Lithography
Keywords:ナノインプリントリソグラフィー,残留応力,収縮
Oral presentation
07. Beam Technology and Nanofabrication » 7.4 Nanoimprint
Sat. Sep 20, 2014 1:00 PM - 3:00 PM A13 (E304)
2:00 PM - 2:15 PM
Keywords:ナノインプリントリソグラフィー,残留応力,収縮