一般セッション(ポスター講演)

[18a-PG3-1~22] 12.1 作製・構造制御

2014年3月18日(火) 09:30 〜 11:30 PG3 (G棟2階)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:30 〜 11:30

[18a-PG3-1] 有機半導体と高分子で構成された有機−有機ハイブリッドナノ粒子作製法の確立

^○渡部大輝¹，宮川佳奈¹，有田稔彦²，増原陽人^3,4,5 (山形大工¹，東北大多元研²，山形大院理工³，有機エレ研究⁴，東北創生研究所⁵)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-2] ポリスチレン@Au型コア/シェル粒子を用いた蛍光色素の2光子励起蛍光特性

^○内藤峻之，志野木駿伍，加藤徳剛 (明大理工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-3] 水熱合成法による単分散性多孔質シリカ中空カプセルの作製

^○（M1）加藤直，田近洋和，加藤徳剛 (明大理工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-4] 顔料分散ポリマーコロイドからのフルカラーマイクロレンズアレイの作製

^○櫻井芳昭¹，畠山冴子²，佐藤和郎¹，田中剛¹，山村昌大¹，村上修一¹，井上陽太郎¹，榎本博行² (阪府産技研¹，大阪電通大²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-5] イオン液体への蒸着により得られた単結晶ペンタセン薄膜の溶媒除去

^○（P）大橋昇¹，柴田陽生²，吉田郵司²，松本祐司¹ (東北大¹，産総研²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-6] フッ素化銅フタロシアニンの膜構造および電気的特性へのアニール効果

^○葛本恭崇^1,2，松山弘賢¹，北村雅季^1,3 (神戸大工¹，シャープ²，東大ナノ量子機構³)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-7] 低分子系塗布型有機薄膜太陽電池の作製技術の検討

^○小江宏幸¹，宮寺哲彦^1,2，吉田郵司¹ (産総研¹，ＪＳＴさきがけ²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-8] 磁場を用いた有機半導体溶液の結晶成長制御

^○神谷亮輔，藤代博之，吉本則之 (岩手大工)

09:30 〜 11:30

▲ [18a-PG3-9] Influence of solvent effect on silole-containing polymer based bulk heterojunction organic solar cells

^○PalanisamyKumar¹，KumarAbhirami¹，ShinPaik-Kyun²，ShizuyasuOchiai¹ (愛知工大¹，仁荷大²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-10] 静電噴霧堆積（ESD）法による有機半導体コロイド薄膜の作製

^○高久英明¹，早川晴美¹，松鷹宏²，青山哲也¹，田島右副^1,2 (理研¹，FLOX²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-11] リン酸を用いたチタニルフタロシアニンナノ結晶の作製法の開発

^○小暮海斗¹，菊地巧也²，小野寺恒信¹，及川英俊¹，笠井均¹ (東北大多元研¹，ユーテック²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-12] 剥離法を用いたPEDOT:PSS-単分子膜接合デバイスの作製

^○小西祐宇¹，永瀬隆^1,2，青野正規¹，寺尾俊彦¹，小林隆史^1,2，上田里永子³，照井通文³，大友明³，内藤裕義^1,2 (大阪府大¹，大阪府大 RIMED²，情通機構³)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-13] ハイドロゲル表面へのPEDOT電極の作製

^○後藤秀彰，小林傑，福士雄大，西岡泰城 (日大理工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-14] Molecular Layer Deposition (MLD)による多色素増感層を用いたZnOスパッタ薄膜の増感

^○松本宏樹，牧原健二，吉村徹三 (東京工科大)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-15] 電子照射アシストによる1-docosene蒸着重合膜の作製と評価

^○佐藤慶太，田中邦明，臼井博明 (東京農工大)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-16] フッ化アルキルシラン高分子薄膜の電子アシスト蒸着

中野洸介，田中邦明，^○臼井博明 (東京農工大)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-17] 水蒸気アシスト蒸着重合法によるポリ尿素多孔質薄膜の作製

^○蓬莱健一，池部雅俊，エンタン，久保野敦史 (静岡大工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-18] スキージ法による透明超撥水膜の作製

^○西澤真吾，天神林瑞樹，白鳥世明 (慶大理工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-19] SAMおよびUV照射を用いたフッ素系高分子薄膜の密着性改善

八木澤美理¹，田中邦明¹，RigobertC.Advincula²，^○臼井博明¹ (農工大院工¹，ケースウエスタン大²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-20] プラスチック表面のニッケルシード層薄膜の作製

^○神野友樹¹，田中邦明¹，臼井博明¹，飛鳥田孝幸²，吉田完²，茂手木義人² (農工大工¹，東洋化成²)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-21] 2分子混合Langmuir膜による表面エネルギー制御と水面重合

太田良平，^○三崎雅裕，小柴康子，石田謙司 (神戸大院工)

09:30 〜 11:30

[18a-PG3-22] 高分子ラビング表面における長鎖分子等方性融液の面内配向

^○片岡正太郎¹，久保野敦史¹，原木秀巳¹，陶山駿² (静大院工¹，静大工²)

一般セッション(口頭講演)

[19a-E5-1~10] 12.1 作製・構造制御

2014年3月19日(水) 09:00 〜 11:45 E5 (E105)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

[19a-E5-1] フェニルアゾメチンデンドリマー金属錯体ナノ粒子の作製と光還元

三浦慧¹，^○小野寺恒信¹，笠井均¹，今岡享稔²，山元公寿²，及川英俊¹ (東北大多元研¹，東工大資源研²)

09:15 〜 09:30

[19a-E5-2] 配位子ナノ粒子界面を反応場とした銅(I)錯体ナノ粒子の作製と物性評価

^○鈴木龍樹，小野寺恒信，笠井均，及川英俊 (東北大多元研)

09:30 〜 09:45

[19a-E5-3] 有機EL素子のための複合発光コロイドの作製と評価

^○松鷹宏¹，青山哲也²，田島右副^1,2 (FLOX¹，理研²)

09:45 〜 10:00

[19a-E5-4] 静電噴霧堆積(ESD)法による有機コロイド薄膜の作製と積層型電子デバイスへの応用

^○青山哲也¹，松鷹宏²，高久英明¹，早川晴美¹，田島右副^1,2 (理研¹，FLOX²)

10:00 〜 10:15

[19a-E5-5] 液滴レーザ・プロセシングによるπ共役高分子単分散ナノ粒子の作製と発光特性

^○川畑公人，富岡明宏 (大阪電気通信大)

休憩 10:15〜10:30 （10:15 〜 10:30）

10:30 〜 10:45

[19a-E5-6] キラルなウレタン側鎖を有するTTF誘導体のナノ集合体の作製

^○今井将人¹，渡邉晃司¹，帯刀陽子²，岡田修司¹ (山形大院理工¹，東京農工大院工²)

10:45 〜 11:00

[19a-E5-7] パルスレーザーを用いた機能性高分子ナノワイヤーの創製

^○後藤真宏¹，佐々木道子²，笠原章²，土佐正弘²，知京豊裕¹ (物・材機構 MANA¹，物・材機構先高材ユ²)

11:00 〜 11:15

[19a-E5-8] ポリビニルピロリドンを結合した銀ナノワイヤーの低融点化

^○富岡明宏，小笹健二，平山瑞己，塚本隼未，増田啓宏，前田将伍，川畑公人 (大阪電通大)

11:15 〜 11:30

[19a-E5-9] LB法による垂直配向CNT成長の促進

^○（M1）栗山直樹，竹澤章裕，大橋正明，中村健太郎，串田正人 (千葉大院工)

11:30 〜 11:45

[19a-E5-10] 「講演奨励賞受賞記念講演」（15分）赤外レーザーによる熱変換有機半導体薄膜の配向制御と機能評価

^○鳥羽亜沙美¹，佐伯宏之²，小柴康子¹，三崎雅裕¹，石田謙司¹，葛原大軌²，山田容子²，上田裕清¹ (神戸大院工¹，奈良先端大²)

一般セッション(口頭講演)

[19p-E5-1~21] 12.1 作製・構造制御

2014年3月19日(水) 13:15 〜 19:00 E5 (E105)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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昼食 11:45〜13:15 （11:45 〜 13:15）

13:15 〜 13:30

△ [19p-E5-1] ESD法により成膜した液晶配向膜のプレチルト角を考慮した方位角アンカリング強度の評価

^○工藤幸寛，内田裕大，高橋泰樹 (工学院大院工)

13:30 〜 13:45

△ [19p-E5-2] キャパシタ電極材料を指向したハイブリッド粒子の作製と評価

^○早坂泰史¹，堂守佑希²，松田圭吾^2,4，増原陽人^2,3,4 (山形大工¹，山形大院理工²，有機エレ研³，東北創生研⁴)

13:45 〜 14:00

△ [19p-E5-3] 光応答ナノ粒子による屈折率変化保持の改善

^○清水智樹^1,2，藤原隆²，川本益揮²，磯島隆史²，佐々高史²，木下岳司¹，石橋幸治² (慶應大理工¹，理研²)

14:00 〜 14:15

△ [19p-E5-4] バイオミメティック撥気泡表面の管内表面への作製

^○亀井潤²，阿部博弥¹，齊藤裕太²，下村政嗣^3,4，藪浩³ (東北大工¹，東北大院工²，東北大多元研³，東北大WPI⁴)

14:15 〜 14:30

△ [19p-E5-5] 液-液界面集積法を利用した高密度のC₆₀ナノ結晶の単粒子薄膜作製

^○松川拓¹，松井淳²，増原陽人^1,3,4 (山形大院理工¹，山形大理²，有機エレクトロニクス研究センター³，東北創生研⁴)

14:30 〜 14:45

△ [19p-E5-6] 電気泳動デポジション法によるC₆₀ナノ結晶薄膜の作製と膜厚制御

^○佐藤駿実¹，増原陽人^1,2,3 (山形大院理工¹，有機エレクトロニクス研究センター²，東北創生研³)

休憩 14:45〜15:00 （14:45 〜 15:00）

15:00 〜 15:15

△ [19p-E5-7] ガスデポジション法を用いたバルクヘテロ接合膜の結晶サイズ制御

^○（PC）柴田陽生¹，大橋昇^2,1，王植平¹，小金澤智之³，宮寺哲彦^1,4，吉田郵司¹ (産総研・太陽光¹，東北大²，高輝度光科学研究センター³，JSTさきがけ⁴)

15:15 〜 15:30

△ [19p-E5-8] 再沈法におけるC₆₀ナノ結晶サイズ制御因子の解明

^○志藤慶治¹，伊藤直子¹，増原陽人^2,3,4 (山形大¹，山形大院理工²，有機エレクトロニクス研究センター³，東北創生研究所⁴)

15:30 〜 15:45

△ [19p-E5-9] 顔料と磁性体ナノ粒子を相選択的に導入したヤヌス粒子の作製と外部磁場による配向評価

^○大嶋寛之¹，金原雅晃¹，齊藤祐太¹，下村政嗣^2,3，藪浩^3,4 (東北大院工¹，東北大WPI²，東北多元研³，JST さきがけ⁴)

15:45 〜 16:00

△ [19p-E5-10] 高分子ナノシートをテンプレートとしたSiO₂超薄膜の作製

^○山本俊介，園部和輝，三ツ石方也，宮下徳治 (東北大多元研)

16:00 〜 16:15

△ [19p-E5-11] 液晶溶媒を用いた可溶性有機半導体の単結晶成長

^○松崎智也，石鍋隆宏，藤掛英夫 (東北大)

16:15 〜 16:30

△ [19p-E5-12] ESDUS法によるポリマー半導体へのCs2CO3ドーピング

^○林田寿徳¹，藤田克彦² (九州大総理工¹，九州大先導研²)

16:30 〜 16:45

▼ [19p-E5-13] Soluble Organic-Inorganic Metal-Halide Perovskites: Electronic Properties and Device Fabrication

^○GiancarloLorena¹，大崎剛¹，長谷川裕之^2,3，高橋幸裕^1,2,3，原田潤^1,2,3，稲辺保^1,2,3 (北大院総化¹，北大院理²，JST-CREST³)

16:45 〜 17:00

[19p-E5-14] 対向ターゲットスパッタ法を用いた電極形成時に生じる有機デバイスへのダメージの原因解析

^○末森浩司，星野聰，茨木伸樹，鎌田俊英 (産総研)

17:00 〜 17:15

[19p-E5-15] ガスフロー蒸着により形成した高速成膜共蒸着発光層のOLED特性

^○継田浩平^1,5，江面知彦^1,5，柚木脇智⁴，安達千波矢^1,2,3,4 (九大OPERA¹，九大WPI-I2CNER²，九州先端研³，i3-OPERA⁴，東京エレクトロン⁵)

休憩 17:15〜17:30 （17:15 〜 17:30）

17:30 〜 17:45

[19p-E5-16] 光前駆体溶液からのペンタセン光単結晶成長

^○大橋知佳^1,3，山田容子^2,3，中山健一^1,3,4 (山形大院理工¹，奈良先端大物質²，CREST³，有機エレクトロニクス研究センター⁴)

17:45 〜 18:00

[19p-E5-17] 溶液成長下の電場印加によるペンタセン単結晶の位置・配向制御

^○小槻賢志，斉木幸一朗 (東大院理)

18:00 〜 18:15

[19p-E5-18] 誘電泳動法を用いた有機半導体トランジスタの作製

^○村田哲洋¹，根岸良太¹，難波直子^2,3，竹谷純一^2,3，小林慶裕¹ (阪大院工¹，阪大産研²，東大院新領域³)

18:15 〜 18:30

[19p-E5-19] ナノ電解法によるフタロシアニン中性ラジカルナノ単結晶の作製と電⼦特性

^○長谷川裕之^1,2 (北大院理¹，情報通信研未来²)

18:30 〜 18:45

[19p-E5-20] 窒素添加LaB₆界面層によるペンタセンのn型特性に関する検討

^○前田康貴¹，湯澤康介¹，大見俊一郎¹，後藤哲也²，大見忠弘² (東工大総理工¹，東北大未来研²)

18:45 〜 19:00

[19p-E5-21] n型ペンタセンMOSダイオード特性のYb界面層堆積温度依存性

^○湯澤康介，石原宏，大見俊一郎 (東工大総理工)

一般セッション(口頭講演)

[20a-E5-1~11] 12.1 作製・構造制御

2014年3月20日(木) 09:00 〜 12:00 E5 (E105)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:00 〜 09:15

[20a-E5-1] アミン蒸気処理によるポリアミック酸膜の膜厚変化

^○坂本謙二 (物材機構)

09:15 〜 09:30

[20a-E5-2] アミン蒸気処理されたポリイミド光配向膜の分子配向とプレチルト角の関係

^○宇佐美清章¹，清原翔吾¹，坂本謙二² (大阪産大¹，物材機構²)

09:30 〜 09:45

[20a-E5-3] ホログラフィック高分子分散液晶を用いた偏光制御型Bragg回折波長切り換え素子

^○垣内田洋¹，吉村和記¹，田澤真人¹，荻原昭文² (産総研¹，神戸高専²)

09:45 〜 10:00

[20a-E5-4] 光重合性モノマーを用いたブルー相液晶の検討

^○（M1C）閨谷渉，古江広和 (東理大院)

10:00 〜 10:15

[20a-E5-5] LS法によるn型導電性高分子とp型導電性高分子の主鎖配向交互積層膜の調製

^○大野慶太¹，岩附紘子¹，原光生¹，永野修作²，関隆広¹ (名大院工¹，名大VBL²)

休憩 10:15〜10:30 （10:15 〜 10:30）

10:30 〜 10:45

[20a-E5-6] 高分子Langmuir-Blodgett膜からなるプロトン伝導膜

^○松井淳¹，佐藤琢磨¹，三ツ石方也²，永野修作³ (山形大理¹，東北大多元研²，名大院工³)

10:45 〜 11:00

[20a-E5-7] アルキルアンモニウム-Au(dmit)₂塩のLB膜の電気化学的特性評価

^○三浦康弘¹，城石英伸²，高橋三男² (桐蔭横浜大院工¹，東京高専物質工²)

11:00 〜 11:15

[20a-E5-8] Al₂O₃/SiO₂基板上にFeNPs-C₁₆/CH₂Cl₂-LB膜を用いたVA-CNT作製

^○高際翔太，金杉治，中村健太郎，串田正人 (千葉大工)

11:15 〜 11:30

[20a-E5-9] バイオテンプレート法による金属マイクロコイルの形状制御とTHz波応答特性

^○鎌田香織，田尻亘，朴貞子，彌田智一 (東工大ERATO彌田プロジェクト)

11:30 〜 11:45

[20a-E5-10] 水溶性ポリマーを用いた外殻付孔構造の高密度形成に関する検討

^○江本顕雄，福田隆史 (産総研)

11:45 〜 12:00

[20a-E5-11] 自己組織化単分子膜を用いた微小領域への量子ドットの固定化

^○飯尾敦，鈴木仁，徳原克俊，高萩隆行，角屋豊，坂上弘行 (広島大院先端研)

一般セッション(口頭講演)

[20p-E5-1~6] 12.1 作製・構造制御

2014年3月20日(木) 13:00 〜 14:30 E5 (E105)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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昼食 12:00〜13:00 （12:00 〜 13:00）

13:00 〜 13:15

[20p-E5-1] ナノミスト堆積法（多電極型静電塗布法）法を用いたAlq3/α-NPB膜積層構造の成膜初期過程の評価

^○（B）高塚祐輔，入江崇之，菊池昭彦 (上智大)

13:15 〜 13:30

[20p-E5-2] 静電塗布法で噴霧した有機液滴の電荷量評価

鈴木あすみ，^○福田武司，鎌田憲彦，本多善太郎 (埼玉大)

13:30 〜 13:45

[20p-E5-3] 静電塗布法を用いたMoO₃ 水溶液の成膜

^○鈴木勝己，福田武司，鎌田憲彦，本多善太郎 (埼玉大)

13:45 〜 14:00

[20p-E5-4] 超音波霧化法を用いたフルオレンポリマーの積層化技術

佐藤新¹，^○福田武司¹，鎌田憲彦¹，本多善太郎¹，吉富輝雄² (埼玉大¹，カルソニックカンセイ²)

14:00 〜 14:15

[20p-E5-5] 超微細インクジェット法による微少液滴内高分子ブレンドの相分離構造

^○水野佑¹，福原慶¹，原光生¹，永野修作²，関隆広¹ (名大院工¹，名大VBL²)

14:15 〜 14:30

▲ [20p-E5-6] Effect of ZnO Seed Layer on Electrochemical Deposition of ZnO Nanorod Array

^○JenniferDamascoTy，柳久雄 (奈良先端大)

セッション一覧

12．有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[18a-PG3-1~22] 12.1 作製・構造制御

▲ [18a-PG3-9] Influence of solvent effect on silole-containing polymer based bulk heterojunction organic solar cells

[19a-E5-1~10] 12.1 作製・構造制御

[19p-E5-1~21] 12.1 作製・構造制御

△ [19p-E5-1] ESD法により成膜した液晶配向膜のプレチルト角を考慮した方位角アンカリング強度の評価

△ [19p-E5-2] キャパシタ電極材料を指向したハイブリッド粒子の作製と評価

△ [19p-E5-3] 光応答ナノ粒子による屈折率変化保持の改善

△ [19p-E5-4] バイオミメティック撥気泡表面の管内表面への作製

△ [19p-E5-5] 液-液界面集積法を利用した高密度のC60ナノ結晶の単粒子薄膜作製

△ [19p-E5-6] 電気泳動デポジション法によるC60ナノ結晶薄膜の作製と膜厚制御

△ [19p-E5-7] ガスデポジション法を用いたバルクヘテロ接合膜の結晶サイズ制御

△ [19p-E5-8] 再沈法におけるC60ナノ結晶サイズ制御因子の解明

△ [19p-E5-9] 顔料と磁性体ナノ粒子を相選択的に導入したヤヌス粒子の作製と外部磁場による配向評価

△ [19p-E5-10] 高分子ナノシートをテンプレートとしたSiO2超薄膜の作製

△ [19p-E5-11] 液晶溶媒を用いた可溶性有機半導体の単結晶成長

△ [19p-E5-12] ESDUS法によるポリマー半導体へのCs2CO3ドーピング

▼ [19p-E5-13] Soluble Organic-Inorganic Metal-Halide Perovskites: Electronic Properties and Device Fabrication

[20a-E5-1~11] 12.1 作製・構造制御

[20p-E5-1~6] 12.1 作製・構造制御

▲ [20p-E5-6] Effect of ZnO Seed Layer on Electrochemical Deposition of ZnO Nanorod Array

△ [19p-E5-5] 液-液界面集積法を利用した高密度のC₆₀ナノ結晶の単粒子薄膜作製

△ [19p-E5-6] 電気泳動デポジション法によるC₆₀ナノ結晶薄膜の作製と膜厚制御

△ [19p-E5-8] 再沈法におけるC₆₀ナノ結晶サイズ制御因子の解明

△ [19p-E5-10] 高分子ナノシートをテンプレートとしたSiO₂超薄膜の作製