[17a-F4-1~11] 7.6 イオンビーム一般

[17a-F4-2] 集束イオンビームを用いたオールドライプロセスによるマイクロ流路デバイス作製プロセスの検討

^○（M2）安達正哲，吉田黎，柳沢淳一 (滋賀県立大工)

キーワード：FIB,マイクロ流路デバイス,ドライエッチング