[17p-F1-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[17p-F1-14] 中性粒子ビームにおけるRFバイアス印加状態のモニタリングと加速機構解明2

^○榊原康明¹，菊地良幸^1,2，寒川誠二² (東京エレクトロン¹，東北大²)

キーワード：中性粒子ビーム支援化学気相成長法,SiCOH系低誘電率絶縁膜