2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[17p-PG2-1~23] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年3月17日(月) 16:00 〜 18:00 PG2 (G棟2階)

16:00 〜 18:00

[17p-PG2-2] Niナノドット電極を用いたSiOx薄膜の抵抗変化特性

劉冲1,荒井崇1,大田晃生2,竹内大智1,張海1,牧原克典1,宮崎誠一1 (名大院工1,名大VBL2)

キーワード:抵抗変化メモリ