[17p-PG3-1~30] 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[17p-PG3-5] 大気圧プラズマCVDを用いたβ-Ga₂O₃薄膜の成長

^○（B）木口拓也¹，野瀬幸則¹，上原剛²，藤村紀文¹ (阪府大¹，積水化学²)

キーワード：酸化ガリウム,化学気相成長,大気圧プラズマ