2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 12:15 D8 (D215)

09:00 〜 09:15

[18a-D8-1] 光電子制御プラズマCVDによるゲートスタック用DLCの誘電率制御:Low-kからHigh-kまで

○(M1)林広幸1,鷹林将2,楊猛1,小川修一1,尾辻泰一2,高桑雄二1 (東北大多元研1,東北大通研2)

キーワード:光電子制御プラズマ,DLC,誘電率