[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

△ [18a-D8-2] 微小角入射X線小角散乱及び広角散乱によるSiO₂薄膜中の短距離秩序性の評価

^○永田晃基^1,4，徳武寛紀¹，長坂将也¹，小椋厚志¹，廣沢一郎²，諏訪智之³，寺本章伸³，服部健雄³，大見忠弘³ (明大理工¹，高輝度光科学研究センター²，東北大³，学振特別研究員⁴)

キーワード：二酸化シリコン,シンクロトロン放射光,動径分布関数