2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 09:00 〜 12:15 D8 (D215)

09:30 〜 09:45

[18a-D8-3] 混合させたシリコーンオイルとオゾンガスを用いた酸化シリコン膜の低温形成

伊藤拓也,西岡賢祐 (宮崎大工)

キーワード:酸化シリコン,低温,Silicon oxide