2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[18p-D8-1~15] 13.2 絶縁膜技術

2014年3月18日(火) 13:30 〜 17:30 D8 (D215)

16:00 〜 16:15

[18p-D8-10] 熱酸化におけるGe(001)基板上Ge1-xSnx層の表面Sn析出に対する熱安定性

加藤公彦,浅野孝典,田岡紀之,坂下満男,中塚理,財満鎭明 (名大院工)

キーワード:ゲルマニウムスズ,スズ析出,熱安定性