[18p-D8-1~15] 13.2 絶縁膜技術

△ [18p-D8-2] Geゲートスタック形成のための酸素中性粒子ビームを用いたAl/Ge同時酸化プロセス

^○中山大樹¹，大野武雄²，北城雅基¹，寒川誠二^1,2 (東北大流体研¹，東北大WPI²)

キーワード：Ge, SiGe, ひずみチャネル