[18p-D8-1~15] 13.2 絶縁膜技術

[18p-D8-3] Al2O3/Ge形成後のプラズマ酸化によるゲートスタックの低温形成

^○永冨雄太¹，長岡裕一¹，山本圭介²，王冬¹，中島寛² (九大・院総合理工学府¹，九大・産学連携センター²)

キーワード：Al2O3