2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18p-E14-1~21] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月18日(火) 13:15 〜 18:45 E14 (E302)

14:30 〜 14:45

[18p-E14-6] 低温接着および厚膜マイクロ流路チャネル形成用感光性材料

○稗田克彦1，山口宙志1，小宮全1，宮崎智和2，SaraPeeters2，JohnO‘callghan3，KarolienJans3，ChengxunLiu3，LiesbetLagae3，ParuDeshpande3 (JSR1，JSR Micro N.V.2，IMEC3)

キーワード：マイクロ流路,低温接着剤,感光性材料