10:15 〜 10:30
[19a-D9-6] 犠牲酸化を用いたSi(100)表面平坦化プロセスのデバイス特性への影響に関する検討
キーワード：表面平坦化プロセス,シリコン,デバイス特性
講演情報
一般セッション(口頭講演)
13．半導体A（シリコン） » 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション
[19a-D9-1~13] 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション
2014年3月19日(水) 09:00 〜 12:30 D9 (D315)
一般セッション(口頭講演)
13．半導体A（シリコン） » 13.1 基礎物性・表面界面現象・シミュレーション
2014年3月19日(水) 09:00 〜 12:30 D9 (D315)
10:15 〜 10:30
キーワード：表面平坦化プロセス,シリコン,デバイス特性