[19p-D6-1~18] 6.4 薄膜新材料

[19p-D6-16] スパッタ法により形成したO₂導入Al添加CeO₂薄膜の評価（1）

^○原健太¹，岡崎拓也¹，野谷祐貴¹，大澤隆志¹，日比野圭佑¹，鈴木摂²，石橋啓次²，山本康博¹ (法政大¹，コメット²)

キーワード：半導体,スパッタリング