2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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分科企画シンポジウム

分科企画シンポジウム » 窒化物半導体特異構造の科学 〜成長・作製と新機能の発現〜

[19p-E13-1~17] 窒化物半導体特異構造の科学 〜成長・作製と新機能の発現〜

2014年3月19日(水) 13:00 〜 19:00 E13 (E301)

18:15 〜 18:30

[19p-E13-16] Crystal domain microstructure analysis of a thick AlN film grown on a trench-patterned AlN/sapphire template by asymmetric X-ray microdiffraction

○(D)Khan Dinh1,Shotaro Takeuchi1,Kunihiko Nakamura1,TakujiArauchi1,YoshiakiNakamura1,HidetoMiyake2,Kazumasu Hiramatsu2,Yasuhiko Imai3,Shigeru Kimura3,Akira Sakai1 (Osaka University1,Mie University2,SPring-83)

キーワード:X-ray microdiffrection,Trench-patterned AlN,Crystal domain