[19p-E14-1~21] 13.3 Si Process・Interconnect・MEMS・Integration

[19p-E14-13] Minimal Spin-on dopant process

^○Kazuhiro Koga¹, Norio Umeyama^1,2, Fumito Imura¹, Hitoshi Asano¹, Haruki Toonoe¹, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (MINIMAL¹, AIST²)

Keywords:Minimal,液体ドーピング,ボロンドーピング