2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-E8-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年3月19日(水) 13:15 〜 18:45 E8 (E202)

14:30 〜 14:45

[19p-E8-6] Analysis of Degradation Mechanism on Bottom Gate Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors with Siloxane Passivation Layer

○(M1)ChaiyananKulchaisit1,2,YasuakiIshikawa1,2,YoshihiroUeoka1,2,BermundoJuanPaolo1,2,MasahiroHorita1,2,YukiharuUraoka1,2 (奈良先端大1,科学技術振興機構2)

キーワード:Siloxane Passivation,Thin Film Transistors,Amorphous InGaZnO