[19p-F6-1~18] 8.4 Plasma etching

[19p-F6-13] Feature profile evolution for plasma etching using on-wafer monitoring

^○Tomohiro Kubota¹, Michio Sato², Takuya Iwasaki³, Kohei Ono³, Seiji Samukawa^1,4 (IFS, Tohoku Univ.¹, Harada Corp.², Mizuho I&R Inst.³, WPI-AIMR, Tohoku Univ.⁴)

Keywords:オンウェハセンサ,イオン軌道予測,イオンシース