[19p-F6-1~18] 8.4 プラズマエッチング

▲ [19p-F6-16] Activation energy measurement of chlorine neutral beam etching of GaAs

^○ThomasCedric¹，田村洋典¹，肥後昭男²，岡田健¹，寒川誠二^1,2 (東北大流体研¹，東北大WPI²)

キーワード：GaAs,neutral beam