[19p-F6-1~18] 8.4 プラズマエッチング

[19p-F6-18] 化合物半導体ドライエッチングにおける残留水分抑制の検討

^○辻幸洋，町長賢一，稲田博史，勝山造 (住友電工)

キーワード：化合物半導体,ドライエッチング,半導体レーザ