2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19p-PG3-1~32] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 16:00 〜 18:00 PG3 (G棟2階)

16:00 〜 18:00

[19p-PG3-24] Ni/Sn の熱処理によるGe(100) 上へのエピタキシャルNiGe 形成

小池正浩,上牟田雄一,守山佳彦,鎌田善己,黒澤悦男,手塚勉 (産総研GNC)

キーワード:半導体,ゲルマニウム,ショットキー