09:45 〜 10:00
[20a-E14-4] 新しいRu-CVD/ALD原料を利用した次世代DRAMキャパシタ用電極形成プロセスの開発(2)
キーワード：Ru
講演情報
一般セッション(口頭講演)
13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術
[20a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術
2014年3月20日(木) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)
一般セッション(口頭講演)
13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術
2014年3月20日(木) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)
09:45 〜 10:00
キーワード：Ru