2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

印刷

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13a-4C-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 12:15 4C (432)

座長:渡邉 孝信(早大),右田 真司(産総研)

09:15 〜 09:30

[13a-4C-2] TDMASを用いたプラズマALD-SiO2への窒素添加による電気特性への効果

〇遠藤 広大1、雷 一鳴1、角嶋 邦之1、若林 整1、筒井 一生1、岩井 洋1 (1.東工大総理工)

キーワード：酸窒化ケイ素