2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[13p-PB2-1~15] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2015年9月13日(日) 13:30 〜 15:30 PB2 (白鳥ホール)

13:30 〜 15:30

[13p-PB2-6] GaAsN系p+-n+トンネル接合ダイオード

〇谷口 龍希1、山根 陽美1、秋山 慧1、倉本 真1、藤田 実樹2、牧本 俊樹1 (1.早大理工、2.一関高専)

キーワード:GaAsN、GaNAs、トンネルダイオード

多接合型太陽電池では、異なる太陽電池を直列に接合するために、トンネルダイオードが必要となる。理論的には、材料のバンドギャップエネルギー(Eg)が減少すると、指数関数的にキャリアのトンネル確率が大きくなる。ここで、N組成が低いGaAsN半導体は、N組成とともにEgが減少することが知られており[1]、GaAsよりも小さなEgを持つ。このため、Egの小さなGaAsNを用いたトンネルダイオードでは、その抵抗が大幅に減少することが期待できる。