The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si wafer processing /MEMS/Integration technology

[14p-1C-1~16] 13.4 Si wafer processing /MEMS/Integration technology

Mon. Sep 14, 2015 1:15 PM - 5:30 PM 1C (135)

座長:中村 友二(富士通研),筑根 敦弘(大陽日酸)

4:15 PM - 4:30 PM

[14p-1C-12] Thermodynamic analysis on the reduction process of chlorosilane gas by hydrogen radical

〇Kenji Itaka1, Masatomo Sumiya2, Takuya Hashimoto3 (1.Hirosaki Univ., 2.NIMS, 3.Nihon Univ.)

Keywords:hydrogen radical,solar grade silicon,reduction

シリコン太陽電池の原料である高純度シリコンはシーメンス法によって製造されるが、水素ラジカルによって収率を向上させることができる可能性がある。水素ラジカルという有限のライフタイムをもった種について、熱力学計算による反応の評価が可能であるかどうかを検討した結果について報告する