[14p-1C-1~16] 13.4 Si wafer processing /MEMS/Integration technology

[14p-1C-11] Generation of hydrogen radical at atmospheric pressure by thermal filament method and measurement of the density

〇Yuji Okamoto^1,2, Fatima Zohra Dahmani³, Daiki Tsutsumi⁴, Takamasa Ishigaki⁴, Masatomo Sumiya¹ (1.NIMS, 2.Tsukuba Univ., 3.USTO-MB, 4.Hosei Univ.)

Keywords:Hydrogen radical,Thermal filament,Siemens method

シリコン太陽電池の原料である高純度シリコン(Si)は、トリクロロシラン(SiHCl₃)を水素ガス(H₂)で還元することで製造される(シーメンス法)。しかし実際にはテトラクロロシラン(SiCl₄)を生成するSiHCl₃の熱分解が優先的に進むため、Si収率が約25%と低いことが課題である。我々はこれまで、熱フィラメント法及びプラズマ法で発生させた水素ラジカルが還元反応を促進し、Si収率の向上を提案・検討してきた。本研究では熱フィラメント法を用い大気圧で水素ラジカルを発生させ、反応装置に導入された水素ラジカル濃度を定量的に測定した。